中國(guó)真空學(xué)會(huì)2016 學(xué)術(shù)年會(huì)第一輪征文通知

　　由中國(guó)真空學(xué)會(huì)主辦、云南師范大學(xué)與北京大學(xué)承辦的中國(guó)真空學(xué)會(huì) 2016 學(xué)術(shù)年會(huì)將于2016年8月12-14 日在云南省昆明市舉辦。熱切希望全體學(xué)會(huì)會(huì)員、理事及科研院所、企業(yè)同仁等踴躍撰稿，積極參加。

　　學(xué)術(shù)交流將采取多種形式：大會(huì)特邀報(bào)告，分會(huì)邀請(qǐng)報(bào)告，分會(huì)口頭報(bào)告，張貼報(bào)告， 以及真空產(chǎn)品推介等。 會(huì)間將頒發(fā) 2016 年度 “中國(guó)真空科技成就獎(jiǎng)” 和 “中國(guó)真空科技青年創(chuàng)新獎(jiǎng)”，并評(píng)選“最佳張貼報(bào)告獎(jiǎng)” 。

　　本次會(huì)議共分12個(gè)研究主題：

　　1. 真空科學(xué)與技術(shù)、真空工程；

　　2. 表面科學(xué)與技術(shù)；

　　3. 應(yīng)用表面科學(xué)與技術(shù)；

　　4. 納米科學(xué)與技術(shù)；

　　5. 納米生物與生物界面；

　　6. 薄膜生長(zhǎng)機(jī)理、制備技術(shù)和應(yīng)用；

　　7. 真空獲得與測(cè)量、質(zhì)譜分析與檢漏；

　　8. 真空冶金與表面工程；

　　9. 電子材料與器件、真空微電子學(xué)；

　　10. 等離子體物理與技術(shù)；

　　11. 顯示技術(shù)；

　　12. 其它相關(guān)科學(xué)技術(shù)。

　　一、征文要求

　　1、本次學(xué)術(shù)會(huì)議歡迎與會(huì)者踴躍投稿，只需提交論文摘要(中、英文均可) ，網(wǎng)站上有摘要模版供下載編輯。

　　2、本次會(huì)議的摘要投稿采用網(wǎng)上進(jìn)行，網(wǎng)站：www.cvsnet.org.cn，網(wǎng)站運(yùn)行投稿時(shí)間為2016年2月，參會(huì)者需要先在網(wǎng)站上注冊(cè)(免費(fèi)) ，然后根據(jù)摘要模板撰寫(xiě)摘要，并依照網(wǎng)站上的提示提交摘要。

　　3、開(kāi)會(huì)前將出版論文摘要集。為統(tǒng)一摘要格式，請(qǐng)采用網(wǎng)站提供的摘要模板編輯。

　　4、網(wǎng)上投稿時(shí)請(qǐng)務(wù)必提供報(bào)告人、所屬的分會(huì)編號(hào)(大會(huì)邀請(qǐng)報(bào)告除外) 、以及報(bào)告類(lèi)型等信息。

　　5、摘要是否被錄用、以及報(bào)告類(lèi)型的決定將在2016年7月份另行通知作者。

　　6、對(duì)于口頭報(bào)告，會(huì)議準(zhǔn)備有多媒體設(shè)備，但請(qǐng)自備 U 盤(pán)。張貼報(bào)告請(qǐng)行打印，尺寸：90cm× 120cm。

　　二、截稿日期

　　1、摘要截稿日期：2016年6月20日前。

　　2、摘要投稿過(guò)程中，如果遇到學(xué)術(shù)問(wèn)題，請(qǐng)與所屬分會(huì)的負(fù)責(zé)人聯(lián)系。

　　3、摘要投稿過(guò)程中，如果遇到技術(shù)問(wèn)題，請(qǐng)與中國(guó)真空網(wǎng)負(fù)責(zé)人聯(lián)系。

　　會(huì)務(wù)組：中國(guó)真空學(xué)會(huì)辦公室

　　地址：北京市朝陽(yáng)區(qū)建國(guó)路93號(hào)萬(wàn)達(dá)廣場(chǎng)9號(hào)樓612室

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