表面偏析濃度非連續(xù)變化現(xiàn)象的定量解釋

2014-12-12 李艷秀 汕頭大學(xué)物理系

  本文利用修正的Darken 模型,對(duì)合金體系表面偏析濃度隨溫度和體濃度非連續(xù)變化現(xiàn)象給予了定量的解釋,并對(duì)Cu(111)Ag 合金中,表面偏析濃度隨銀體濃度變化的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行了擬合,獲得了相應(yīng)的表面偏析參數(shù)。

  表面偏析是合金材料中常見的一種現(xiàn)象,它既能導(dǎo)致合金材料的脆性斷裂,產(chǎn)生破壞性的作用,也可以改變合金材料的抗氧化性,抗腐蝕性及韌性,達(dá)到更好地利用材料的目的。在表面偏析的研究中,表面偏析濃度的非連續(xù)變化在化學(xué)催化領(lǐng)域有著非常重要的影響,所以,這一現(xiàn)象自1974年在Ni-C 體系中首次被觀察到以來,一直就是表面偏析研究的一個(gè)熱點(diǎn)。

  上世紀(jì)末,針對(duì)Cu-Ag 合金體系中所觀察到的表面偏析濃度非連續(xù)變化的現(xiàn)象,主要存在以下三種不同的解釋:

  (1)表面的“二維相變”所致;

  (2)表層附近存在所謂的“局域平衡”;

  (3)Fowler 表面偏析理論的一個(gè)特例。

  二維相變的解釋被認(rèn)為是錯(cuò)誤地植入了一個(gè)針對(duì)封閉塊體系提出的溶解限概念,因?yàn)楸砻媸且粋(gè)開放的體系。局域平衡模型最大的缺陷就是無法判定在偏析的動(dòng)態(tài)過程中,表層附近局域平衡是否存在。本文利用修正的Darken模型,不僅對(duì)表面偏析濃度隨樣品體濃度非連續(xù)變化現(xiàn)象給出了定量的解釋,而且還給出了在偏析的動(dòng)態(tài)過程中樣品表層附近局域平衡的判據(jù)。

1、修正的Darken 模型

  修正的Darken 模型將晶體分成厚度為d 的N+1 層,其中第一層為表面層,其余N 層為體層。該模型建立在如下的三個(gè)假設(shè)之上:

  1.系統(tǒng)為表面和體相組成的封閉體系;

  2.表面區(qū)域有限而體相無限;

  3. 原子可以在表相與體相之間互相交換,以達(dá)到體系能量最小。

封閉體系(晶體)被分成N+1個(gè)子系統(tǒng)/層

圖1 封閉體系(晶體)被分成N+1個(gè)子系統(tǒng)/層

3、結(jié)論

  Cu(111)Ag 合金中,隨著Ag 體濃度的減少,Ag 的表面偏析濃度隨溫度的變化由連續(xù)變?yōu)榉沁B續(xù),并伴隨著表面偏析的遲滯現(xiàn)象。利用修正的Darken 模型,這一非正常的偏析現(xiàn)象得到了定量的解釋,并由此獲得了Cu(111)Ag 合金中偏析能為25.4 kJ/mol,相互作用系數(shù)為12.0 kJ/mol。