真空工藝對環(huán)境的要求

2009-04-10 陳占杰 中國電子科技集團公司第四十五研究所

常規(guī)真空工藝對環(huán)境的要求

        所謂常規(guī)真空工藝系指沒有特殊要求的真空工藝過程,這類真空裝置(設備)對真空衛(wèi)生的要求:

      (1)凡是處于真空中的真空設備零件,都要求無積存的污染源,表面無塵埃,無鐵屑、無銹蝕;

      (2 )真空設備的真空室表面要光滑、無松軟組織和氣孔、無內(nèi)焊縫等影響真空的缺陷;

      (3 )高真空設備中,真空室內(nèi)的運動部件不得用機油作潤滑劑,要用飽和蒸氣壓低的擴散泵油、硅油作潤滑劑;法蘭、觀察窗的密封部件要涂以高真空油脂;

      (4)真空設備一般應在溫度為15~30℃,相對濕度不高于70%的清潔空氣流通的環(huán)境中工作,冷卻水進水溫度不高于25 ℃。

電真空工藝對環(huán)境的要求

         電真空結構材料除具有良好的機械性能和加工性能外,還要滿足其他性能的要求,即容易除氣、低的飽和蒸氣壓、一定的化學穩(wěn)定性、一定的純度和清潔度、合適的輻射能力等。所以電真空工藝具有特殊性,對清潔處理要求是極為嚴格的,應最大限度清除或減少零件的污染。

真空鍍膜工藝對環(huán)境的要求

        真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要,基片進入鍍膜室前均應進行認真的鍍前清潔處理,達到工件去油、去污和脫水的目的;砻嫖廴緛碜粤慵诩庸ぁ鬏、包裝過程所粘附的各種粉塵、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。這些污物基本上均可采用去油或化學清洗方法將其去掉。