石英玻璃真空腔的低溫鍵合技術(shù)研究
用于制造石英玻璃真空腔的低溫鍵合技術(shù)受到了廣泛的重視。該技術(shù)基于氫氧化物催化玻璃表面的水解/脫水過(guò)程,通過(guò)在鍵合界面之間形成硅酸鹽三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)鍵合,是一種高強(qiáng)度、高精確性、可靠的室溫鍵合方法。本文簡(jiǎn)述了國(guó)際上低溫鍵合技術(shù)的研究動(dòng)態(tài),對(duì)石英玻璃低溫鍵合技術(shù)的工作原理進(jìn)行了闡述,并設(shè)計(jì)了石英玻璃低溫鍵合的詳細(xì)實(shí)施步驟。通過(guò)對(duì)鍵合溶液濃度、鍵合過(guò)程、加速固化方法等關(guān)鍵工藝參數(shù)的分析和研究,實(shí)現(xiàn)了石英玻璃的低溫鍵合,鍵合強(qiáng)度超過(guò)2.88MPa,而鍵合界面與光膠一樣均勻、透明。利用低溫鍵合技術(shù)形成石英玻璃真空腔,漏率優(yōu)于5×10-10 Pa·L/s。
石英玻璃作為一種重要的真空材料得到了廣泛應(yīng)用。石英玻璃的膠合質(zhì)量直接影響石英玻璃真空腔的真空度、幾何精度和壽命。傳統(tǒng)的玻璃膠合手段包括光膠、環(huán)氧膠膠合和漿料鍵合(Fritbonding),但這些手段均存在各自的優(yōu)缺點(diǎn)。光膠的優(yōu)勢(shì)在于光學(xué)透明、膠合精度高,但真空技術(shù)網(wǎng)(http://www.13house.cn/)認(rèn)為這種技術(shù)環(huán)境適應(yīng)性較差(比如潮濕環(huán)境)、結(jié)合力低、對(duì)膠合表面要求高(對(duì)面形、疵病和粗糙度都有極高要求)、需要相對(duì)大的膠合面積,總體來(lái)說(shuō)可靠性相對(duì)較差;環(huán)氧膠膠合的最大問(wèn)題是光解和熱解,而且結(jié)合力隨溫度和化學(xué)環(huán)境發(fā)生變化;漿料鍵合技術(shù)是一種高溫技術(shù),其結(jié)合力強(qiáng)但精確性差,而且存在巨大的熱噪聲,并不適合精密石英玻璃真空腔的制造。
而低溫鍵合技術(shù)克服了傳統(tǒng)石英玻璃膠合技術(shù)的缺陷。該技術(shù)又稱為氫氧化物催化鍵合(Hydroxide-Catalyzed Bonding,HCB)技術(shù),是一種在室溫環(huán)境下通過(guò)在鍵合界面形成硅酸鹽網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)進(jìn)行兩體鍵合的可靠的固體膠合方式。與光膠相比,這種方法對(duì)界面要求不高(精研表面即可),結(jié)合力更強(qiáng)(與漿料鍵合相當(dāng)),抗溫度沖擊,而鍵合界面與光膠一樣均勻、精確、透明,可以廣泛應(yīng)用于熔石英、光學(xué)玻璃、光學(xué)晶體、花崗巖等材質(zhì)的兩體鍵合。上世紀(jì)90年代美國(guó)宇航局(NASA)為滿足重力探針B(GP-B)計(jì)劃嚴(yán)酷的發(fā)射和使用條件資助美國(guó)斯坦福大學(xué)開(kāi)展低溫鍵合技術(shù)研究,并獲得了非常理想的鍵合特性。從此,低溫鍵合技術(shù)引起了國(guó)外多家研究機(jī)構(gòu)的高度重視,包括美國(guó)斯坦福大學(xué)、NASA、洛克希德·馬丁公司、德國(guó)肖特公司、英國(guó)格拉斯哥大學(xué)等研究機(jī)構(gòu)一直致力于低溫鍵合技術(shù)的進(jìn)一步開(kāi)發(fā)和應(yīng)用。經(jīng)過(guò)近十年的研究探索,低溫鍵合技術(shù)的適用材料已經(jīng)擴(kuò)展到藍(lán)寶石、SiC、Si等多種光學(xué)晶體中,并且實(shí)現(xiàn)了異種材料之間的兩兩鍵合;應(yīng)用領(lǐng)域也擴(kuò)展到基礎(chǔ)科學(xué)研究、天文觀測(cè)、復(fù)雜光學(xué)元件制造、光通訊元件、大功率光纖激光器等諸多領(lǐng)域。NASA將該技術(shù)定位為一種光學(xué)透明、結(jié)構(gòu)可靠、熱性能穩(wěn)定的低溫技術(shù)。
1、原理
如圖1所示,含有氫氧化物的鍵合溶液施加在石英玻璃上時(shí),OH-扮演催化劑的角色,促使與其接觸的石英玻璃表面水解,從而釋放出硅酸鹽離子。
SiO2+OH-+2H2O※Si(OH)-
圖1 石英玻璃表面水解過(guò)程示意圖
當(dāng)硅酸鹽釋放到溶液中后,活動(dòng)的OH-離子就會(huì)減少。一旦溶液的pH值低于11,硅酸鹽離子就會(huì)解離形成
Si(OH)4Si(OH)-5※Si(OH)4+OH-
如圖2所示,這些Si(OH)4分子可以重新聚合形成硅氧烷鏈和水
2Si(OH)4※(HO)3SiOSi(OH)3+H2O
圖2 石英玻璃表面脫水過(guò)程示意圖
當(dāng)水分子開(kāi)始蒸發(fā)或進(jìn)入石英玻璃時(shí)硅氧烷開(kāi)始形成化學(xué)鍵。脫水過(guò)程繼續(xù)進(jìn)行時(shí),硅氧烷鏈逐漸形成糾纏的三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),從而提供足夠的鍵合強(qiáng)度。
2、實(shí)施步驟
設(shè)計(jì)石英玻璃低溫鍵合技術(shù)的實(shí)施步驟如圖3所示,并對(duì)關(guān)鍵工序的工藝參數(shù)進(jìn)行了分析和試驗(yàn)。
圖3 低溫鍵合技術(shù)實(shí)施步驟
2.1、表面準(zhǔn)備
由于兩個(gè)鍵合表面需要近到足以成鍵,低溫鍵合技術(shù)對(duì)待鍵合表面的表面平整度提出了要求。實(shí)驗(yàn)表明,為實(shí)現(xiàn)大強(qiáng)度、高可靠性、密封性優(yōu)良的鍵合界面,要求面形至少達(dá)到λ/3。待鍵合表面需要超精密清洗以去除表面微粒并形成親水表面,清洗過(guò)程可以采用通常的半導(dǎo)體超精密清洗流程。利用異丙醇、H2SO4:K2Cr2O7、NaOH依次清洗待鍵合工件,接觸角小于10°,滿足低溫鍵合實(shí)驗(yàn)對(duì)表面潔凈度的要求。
2.2、鍵合溶液準(zhǔn)備
鍵合溶液通常為包含氫氧化物的水溶液。由于溶液中的粒子和雜質(zhì)容易在鍵合界面形成缺陷點(diǎn),從而影響低溫鍵合的強(qiáng)度、穩(wěn)定性和環(huán)境適應(yīng)性,所以要注意保證溶液的潔凈。
鍵合溶液的濃度是鍵合過(guò)程中的一個(gè)重要參數(shù)。實(shí)驗(yàn)研究表明(表1),鍵合強(qiáng)度隨濃度變化:濃度越大,強(qiáng)度越低,但固化時(shí)間越長(zhǎng),可以進(jìn)行更精確的位置操作;濃度越小,強(qiáng)度越高,但留給精確調(diào)整的時(shí)間越短;但當(dāng)濃度過(guò)低時(shí)會(huì)對(duì)石英玻璃的表面水解過(guò)程產(chǎn)生影響,鍵合強(qiáng)度會(huì)迅速下降。
表1 不同溶液濃度下的鍵合強(qiáng)度
5、結(jié)論
低溫鍵合技術(shù)作為一種新型玻璃膠合技術(shù),避免了光膠、環(huán)氧膠膠合和漿料膠合等傳統(tǒng)玻璃膠合方法的諸多缺陷,正逐漸成為玻璃真空腔的主要制造技術(shù)。
通過(guò)對(duì)鍵合溶液濃度、鍵合過(guò)程、加速固化方法等關(guān)鍵工藝參數(shù)的分析和研究,實(shí)現(xiàn)了石英玻璃的低溫鍵合,鍵合強(qiáng)度超過(guò)2.88MPa,而鍵合界面與光膠一樣均勻、透明。利用低溫鍵合技術(shù)形成石英玻璃真空腔,漏率優(yōu)于5×10-10Pa·L/s。