JB/T 8946—1999 真空離子鍍膜設備

Vacuum ion coating plant

1、范圍

JB/T 8946—1999 真空離子鍍膜設備標準規(guī)定了真空離子鍍膜設備的技術要求，試驗方法，檢驗規(guī)則，標志、包裝、運輸和貯存等。

本標準適用于壓力在10-4~10-3Pa范圍的真空離子鍍膜設備（以下簡稱設備），具體包括如下類型：多弧離子鍍、電弧放電型真空離子鍍、空心陰極離子鍍（HCD）、射頻離子鍍（RFIP）、直流放電二極型（DCIP）、多陰極型、活性反應蒸發(fā)鍍（ARE）、增強型ARE、低壓等離子體離子鍍（LFPD）、電場蒸發(fā)離子鍍、感應加熱離子鍍、簇團離子束鍍等。

注：離子鍍是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時，把蒸發(fā)物或其反應物沉積在基片上。

2、引用標準

下列標準所包含的條文，通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。本標準出版時，所示版本均為有效。所有標準都會被修訂，使用本標準的各方應探討使用下列標準最新版本的可能性。

GB/T 6070—1995 真空法蘭

GB/T 11164—1999 真空鍍膜設備 通用技術條件

3、技術要求

3.1設備正常工作條件

3.1.1 環(huán)境溫度：10℃~30℃。

3.1.2 相對濕度：不大于75%。

3.1.3 冷卻水進水溫度：不高于25℃。

3.1.4 冷卻水質(zhì)：城市自來水或相當質(zhì)量的水。

3.1.5 供電電源：380 V三相50 Hz 或220 V單相50 Hz（由所用電器需要而定）；

電壓波動范圍：342 ~ 399 V或198 ~231 V；

頻率波動范圍：49~51 Hz。

3.1.6 設備所需的壓縮空氣，液氮，冷水、熱水等的壓力、溫度，消耗量等，均應在產(chǎn)品使用說明書中寫明。

3.1.7 設備周圍環(huán)境整潔，空氣清潔，不應有引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵�；驓怏w存在。

3.2 設備技術參數(shù)

3.2.1 設備的主要技術參數(shù)應符合表1規(guī)定。

更多真空技術標準請查看：真空技術標準匯編

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