磁控濺射鍍膜不均勻的成因
無(wú)論是哪種真空鍍膜機(jī)鍍制的薄膜，其均勻性都會(huì)受到某種因素影響，現(xiàn)在我們就磁控濺射真空鍍膜機(jī)來(lái)看看造成不均勻的因素有哪些。
磁控濺射真空鍍膜機(jī)的運(yùn)作就是通過(guò)真空狀態(tài)下正交磁場(chǎng)使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。如此我們可以考慮與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、氬氣這三個(gè)方面。
真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來(lái)控制的，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開(kāi)動(dòng)并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了，壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì)造成真空度不夠，但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源，不過(guò)有真空計(jì)的存在，要控制好還是不成問(wèn)題的。
磁場(chǎng)是正交運(yùn)作的，但你要把磁場(chǎng)強(qiáng)度做到百分之一百均勻是不可能的，一般磁場(chǎng)強(qiáng)的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以會(huì)造成膜層厚度的不一致，不過(guò)在生產(chǎn)過(guò)程中，由于磁場(chǎng)的不均勻?qū)е碌哪硬痪鶆虻那闆r卻不是常見(jiàn)的，為什么呢?原來(lái)磁場(chǎng)強(qiáng)弱雖然不好控制，但同時(shí)工件也在同時(shí)運(yùn)轉(zhuǎn)，而且是靶材原子多次沉積才會(huì)結(jié)束鍍膜工序，在一段時(shí)間內(nèi)雖然某些部位厚，某些部位薄，但另一個(gè)時(shí)間內(nèi)，磁場(chǎng)強(qiáng)的作用下在原來(lái)薄的部位沉積上厚的，在厚的部位沉積上薄的，如此多次，整個(gè)膜層最終成膜后，均勻性還是比較不錯(cuò)的。
氬氣的送氣均勻性也會(huì)對(duì)膜層的均勻性產(chǎn)生影響，原理其實(shí)和真空度差不多，由于氬氣的進(jìn)入，真空室內(nèi)壓強(qiáng)會(huì)產(chǎn)生變化，均勻的壓強(qiáng)大小可以控制成膜厚度的均勻性。
雖然總是會(huì)有那么幾種因素造成膜層的不均勻，但如果正確的把真空鍍膜機(jī)的操作做到位了，那么膜層的合格率是很高的。
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