基于模糊控制和PID控制的電弧爐直流電源的研究

2014-01-11 趙希洋 西安石油大學(xué)電子工程學(xué)院

  本文針對(duì)真空電弧爐直流電源在熔煉階段數(shù)字PID 控制存在電流超調(diào)與響應(yīng)速度矛盾的問題,提出了模糊控制和PID 控制相結(jié)合的控制策略,著重介紹了模糊控制方法的應(yīng)用,并在Matlab 中對(duì)單個(gè)電源模塊進(jìn)行仿真。實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明了這種控制方式的可行性和優(yōu)勢(shì),具有良好的應(yīng)用前景,且符合直流電源智能化、模塊化的發(fā)展趨勢(shì)。

  真空電弧爐是金屬熔煉的重要設(shè)備,而高效、穩(wěn)定的直流供電電源是保證電弧爐正常運(yùn)行的關(guān)鍵。電弧爐可分為起弧、熔煉、補(bǔ)縮等工作階段?蛰d起弧時(shí),真空電弧爐的起弧電壓一般為50 V~80 V,既需要防止起弧電壓過低無法啟動(dòng),又需要抑制過高的電壓損壞坩堝。所以實(shí)際操作中,起弧時(shí)應(yīng)采用電壓閉環(huán)調(diào)節(jié),而熔煉中應(yīng)采用電流閉環(huán),以構(gòu)成穩(wěn)定度好的恒流控制。目前冶金行業(yè)大多采用經(jīng)典的PID 調(diào)節(jié)器,本文根據(jù)模糊控制理論,著重針對(duì)電流閉環(huán)提出了一種模糊控制和PID 控制相結(jié)合的控制方法。

  1、直流電源主電路結(jié)構(gòu)

  小型化是直流電源發(fā)展趨勢(shì)之一,在此本文介紹一種小型電源模塊的結(jié)構(gòu)。三相交流經(jīng)三相不可控整流變?yōu)橹绷,然后在全橋逆變電路轉(zhuǎn)化為高頻脈沖,再經(jīng)高頻變壓器降壓,最后全波整流,輸出直流電供電弧爐使用。輸入380 V 的交流電,輸出直流電流1 kA,輸出電壓20 V~50 V。C1 為輸入濾波電容,Lf 和Cf 構(gòu)成輸出LC 濾波環(huán)節(jié),T1~T5 為五個(gè)高頻變壓器。其中全橋逆變電路由TMS320F2812 控制,是整個(gè)電路的核心。綜合設(shè)備輸出參數(shù)要求及經(jīng)濟(jì)性,我們選用IGBT 為逆變功率元件。

單個(gè)電源模塊主電路原理圖

圖1 單個(gè)電源模塊主電路原理圖

  4、實(shí)驗(yàn)環(huán)節(jié)與結(jié)論

  本文利用Matlab/Simulink 仿真軟件對(duì)模糊和PID 算法控制的電流環(huán)進(jìn)行仿真,額定輸出電流1 kA,電壓20 V~50 V。仿真結(jié)果如圖8,實(shí)驗(yàn)仿真結(jié)果表明模糊控制和PID 控制相結(jié)合的方法有良好的控制結(jié)果,響應(yīng)速度快,且穩(wěn)態(tài)精度高,超調(diào)較小。本文從理論上證明了模糊控制和PID 控制的可行性和優(yōu)勢(shì)。但由于在仿真中很多元器件都是理想模型,與實(shí)際使用的元件存在偏差,在實(shí)際需要通過查看實(shí)際輸出電壓和電流進(jìn)行調(diào)整。同時(shí)本文未考慮電磁干擾可能對(duì)控制電路的影響,這也是實(shí)際調(diào)試時(shí)需要考慮的問題。

實(shí)驗(yàn)電流波形圖

圖8 實(shí)驗(yàn)電流波形圖