氧化鋅(ZnO)薄膜的性能分析(2)

2009-05-29 趙印中 蘭州物理研究所表面工程技術(shù)國家級重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

3、氧化鋅(ZnO)薄膜的光電特性

        由于ZnO 具有較大的激子束縛能,特別是與GaN 比較而言(ZnO 為60 meV,GaN 為25 meV),因此,作為發(fā)光材料,ZnO 比GaN 發(fā)光更明亮,使得ZnO 在光電器件方面的應(yīng)用吸引了科研人員更大的注意。另外,由于ZnO 激子具有很好的穩(wěn)定性, 成為在室溫下實(shí)現(xiàn)激子有效激發(fā)的材料。

        在發(fā)光特性方面,對ZnO 材料的研究已經(jīng)從本征發(fā)光擴(kuò)展到稀土元素?fù)诫s發(fā)光以及電致發(fā)光等方面。對于ZnO 薄膜發(fā)光特性,一般觀察到的發(fā)光峰主要有380 nm 處的近紫外發(fā)光峰和510 nm 處的綠光峰。大多數(shù)研究者認(rèn)為,380 nm 的近紫外峰來源于帶邊激子躍遷,而510 nm 處的綠光峰來源于氧空位。

        圖6 是真空技術(shù)網(wǎng)給出的In 摻雜ZnO 薄膜的光致發(fā)光(PL)譜。作者認(rèn)為摻InZnO 薄膜的PL 譜中的藍(lán)紫發(fā)射雙峰來源于In 摻雜所引入的In 替位雜質(zhì)和鋅空位(VZn)缺陷。

氧化鋅(ZnO)薄膜的光電特性

        ZnO 材料作為一種很有前途的光伏材料,對其研究也很多。真空技術(shù)網(wǎng)等在ITO 薄膜上用磁控濺射法沉積了ZnO 薄膜,并研究了其光電性質(zhì)。結(jié)果表明,光電流達(dá)到14 μA,暗態(tài)電流接近于零,說明其具有非常強(qiáng)的光敏感性。這是由于雙層薄膜之間的費(fèi)米能級不同而形成空間內(nèi)建電場的作用, 使產(chǎn)生的光生電子與空穴有效分離, 減少了電子和空穴的復(fù)合, 促進(jìn)光生載流子的產(chǎn)生并延長了載流子壽命,得到了較強(qiáng)的光電流。

        ZnO 薄膜的外延生長溫度很低,有利于降低設(shè)備成本,提高成膜質(zhì)量,更重要的是易于摻雜。摻入B、Al、Ga、In 等III 族施主雜質(zhì)可使其n 型導(dǎo)電得到增強(qiáng);也可以通過摻入N、P、As 等V 族受主雜質(zhì)或通過施主-受主元素共摻雜(如Ga-N 共摻雜)的辦法,使其具有p 型導(dǎo)電特性。因此,在ZnO 光電特性的研究中,制備結(jié)型器件是ZnO 薄膜實(shí)用化的關(guān)鍵,制備p 型ZnO 薄膜和ZnO的同質(zhì)p-n 結(jié)及異質(zhì)p-n 結(jié)的研究也成為該領(lǐng)域中的重要研究內(nèi)容。

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