采用磁場后處理法改變碳納米管的表面結構，增強了碳納米管場發(fā)射性能。采用SEM對樣品的處理前后的形貌進行了表征，場發(fā)射的數據顯示，相對于，未經過任何處理的碳納米管陰極，磁場后處理過的碳納米管冷陰極的開啟電場(電流密度為0.1mA/cm2時的電場)由1.05降低到0.73V/μm，場增強因子從1656增加到2045，場發(fā)射的亮度及均勻度均得到改善。相對其它后處理方法，磁場后處理法是一種簡單、經濟且有效的增強碳納米管的場發(fā)射特性的方法。

　　碳納米管(CNT)因其優(yōu)異的物理和化學性能，使其在多個領域諸如納米電子器件、場發(fā)射、以及高強度的復合材料等有廣闊的應用前景。而定向CNT作為生長方向一致的CNT，可以充分發(fā)揮CNT沿軸向優(yōu)異導熱和電荷傳輸性能，使得它具有更為廣闊的應用前景。

　　CNT的定向與否將對場致發(fā)射性能產生重要的影響，所以人們爭相開發(fā)具有定向排列的CNT管束，加快碳納米管-場發(fā)射顯示器(CNT-FED)的研究進程。目前定向排列的CNT管束和陣列的制備方法基本上分為三類:其一是在直接原位生長定向排列的CNT陣列，原位生長的方法有很多，如化學氣相沉積(CVD)法、等離子CVD法、微波等離子體輔助化學氣相法等，其中盛雷梅等采用CVD法在金屬基底上生長出垂直于基底的CNT陣列，并進行場致性能測試，其開啟電壓最低為1.25V/μm。第二類是用模板進行影響CNT的生長方向，如陳星等利用多孔氧化鋁模板兼催化劑，制備出了定向的CNT陣列，并研究沉積溫度對沉積結果的影響。最后一類就是利用已經制備的CNT在物理場(力場，強磁場，電場)中定向排列，這類方法相對其他兩種，具有操作簡單，成本低廉，不會在制備的過程中引入雜質等優(yōu)點，因此這一類方法可能實現工業(yè)化，可以實現對CNT的操控。這一方法同樣適用CNT-FED中，比如三星公司就利用電場來使CNT定向，大幅度地提高了其場致發(fā)射性能，但是其具體技術沒有公開，人們無法獲知其具體參數。由于CNT的磁化率各向異性，徑向磁化率略大于其軸向磁化率，利用磁化率的各向異性，對CNT進行定向，本文是將磁場處理應用于CNT陰極，考察其場致發(fā)射性能，并通過微結構等分析探索磁場作用機理。

1、實驗

　　首先對CNT進行超聲粉碎處理，達到短化分散的效果，過濾、去離子水沖洗后，加入異丙醇溶液和十二烷基苯磺酸鈉添加劑，進行超聲分散，又進行過濾、烘干。將烘干的碳納米管置入有異丙醇中，添加硝酸鎂載體離子，Mg2+濃度大概1.0mmol/L，配置好的電泳液在超聲機下，超聲4～5h，獲得充分分散的CNT電泳液。CNT的電泳采用直流式電泳，陰陽極板間距700μm，電泳電流4mA，電泳時間9min。電泳電壓為8V。將電泳好的樣片在60℃恒溫爐中干燥1h，之后，于300℃燒結3min，蒸發(fā)去除有機溶劑等雜質成分。燒結完后，將對碳納米管進行磁場后處理，如示意圖1所示。其中磁鐵間距為8cm，經測試中間的磁場強度可以達到0.5T，將電泳好的基片置于磁場之中，時間為4h，后進行掃描電鏡(SEM)觀察和場致發(fā)射性能測試。

圖1 磁場后處理裝置圖

3、結論

　　CNT陰極陣列的磁場后處理，通過磁控處理過程提高CNT陰極的場發(fā)射性能，并對處理前后的CNT陰極場發(fā)射各項性能進行對比，分析了CNT陰極場發(fā)射性能得到改進的原因:碳納米管的直立和管間間距的增大有利于場增強因子提高，磁化的過程是分子電流聚集、整合和提高電子活性的過程，經過磁場磁化處理后，碳納米管內部的電子變得更具活性，電子能級得到相應提高，使得部分電子可以在較低的電場作用下，提高進行場致發(fā)射。場致發(fā)射測試也表明，經過磁場處理，可以明顯降低CNT的開啟電場，提高其亮度和均勻性，說明采用磁場后處理來提高CNT的場致性能是簡單易行，成本低廉的方法。